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浙江大学学报(工学版)
J4  2005, Vol. 39 Issue (7): 1077-1081    
论文     
磁控溅射法La0.5Ca0.5MnxTi1-xO3薄膜的制备与结构研究
孟津，周雪梅，翁文剑，韩高荣（浙江大学 硅材料国家重点实验室，浙江 杭州 310027）
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摘要：

利用射频磁控溅射法结合后期热处理，在Si（100）基板上以不同的工艺条件成功制备了La0.5Ca
0.5MnxTi1-xO3（LCMTO）复铁电性磁电子薄膜.通过X射线衍射（XRD）、原子力显微镜（AFM）、电子衍射
能谱（EDS）等手段对薄膜进行了相的形成、结构特性及薄膜组成等的测试.研究表明，薄膜在600℃以上
开始析晶，850℃以上结晶完成,形成正交晶系钙钛矿相.硅基板上的LCMTO薄膜在不同温度下析出晶相的晶
格常数不同，温度越高，晶相的晶格常数越大；薄膜厚度越大，晶格常数相对较小;在薄膜制备时提高氧
分压，形成氧空位浓度低的完整晶相， Si基板上LCMTO薄膜的晶格常数相对较小.
关键词： 钙钛矿相;  复铁电性;  薄膜;  磁控溅    
出版日期: 2005-07-20
基金资助:

教育部高等学校博士学科点专项科研基金资助项目(20020335017)；国家自然科学基金资助项
目(50372057；50332030).
作者简介: 杜丕一（1956-），男，江苏苏州人，教授，从事功能材料的研究. E-mail:dupy@zju.edu.cn
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杜丕一
孟津
周雪梅
翁文剑
韩高荣

引用本文:

杜丕一 孟津 周雪梅 翁文剑 韩高荣. 磁控溅射法La0.5Ca0.5MnxTi1-xO3薄膜的制备与结构研究[J]. J4, 2005, 39(7): 1077-1081.

DU Pi-Yi, MENG Jin, ZHOU Xue-Mei, WENG Wen-Jian, HAN Gao-Rong. . J4, 2005, 39(7): 1077-1081.

链接本文:

http://www.zjujournals.com/xueshu/eng/CN/    或    http://www.zjujournals.com/xueshu/eng/CN/Y2005/V39/I7/1077

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