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浙江大学学报(工学版)
J4  2005, Vol. 39 Issue (7): 926-930    
论文     
退火对nc-Si镶嵌复合薄膜结构及发光特性的影响
肖瑛1， 刘涌1， 侯春2，韩高荣1（1.浙江大学　材料科学与工程学系，硅材料国家重点实验
室，浙江 杭州 310027;2.浙江工业大学 理学院，浙江 杭州 310014）
 全文: PDF 
摘要：

采用减压化学气相沉积方法，依靠纯N2稀释的SiH4气体的热分解反应，在玻璃表面生长了纳米硅
镶嵌的复合薄膜.实验研究了退火前后薄膜样品的结晶状态和光致发光特性.结果表明，未退火样品的光致
发光特性随沉积温度升高反而减弱.当退火温度＞600℃时，晶化趋势明显；当退火温度＜600℃时，对晶
化的影响不显著，但提高退火温度或延长退火时间可以增加光致发光谱(PL)强度.通过HRTEM分析证实了薄
膜为纳米硅镶嵌复合的特殊结构.并通过Raman、PL、HRTEM的比较分析，认为在退火前后分别有两种不同
的发光机制起主导作用.
关键词： 纳米硅;  化学气相沉积;  退火;  光致发光    
出版日期: 2005-07-20
基金资助:

国家自然科学基金资助项目(69890230).
作者简介: 肖瑛（1978-），女，湖南衡阳人，硕士生，主要从事光电薄膜材料制备与结构性能的研究. 通讯联系人：韩高荣，男，教授.E-mail:hgr@zju.edu.cn
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肖瑛
刘涌
侯春
韩高荣

引用本文:

肖瑛 刘涌 侯春 韩高荣. 退火对nc-Si镶嵌复合薄膜结构及发光特性的影响[J]. J4, 2005, 39(7): 926-930.

XIAO Ying, LIU Chong, HOU Chun, HAN Gao-Rong. . J4, 2005, 39(7): 926-930.

链接本文:

http://www.zjujournals.com/xueshu/eng/CN/    或    http://www.zjujournals.com/xueshu/eng/CN/Y2005/V39/I7/926

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