制备了膜层质量良好的镁钙微波介质陶瓷(MCT)薄膜.采用高密度等离子体射频溅射法在(110)二氧化硅上沉积了MCT陶瓷薄膜.研究结果表明: 薄膜态MCT陶瓷具有和块状材料相近的微波介电特性,MCT薄膜的介电常数在20左右,品质因子在23THz左右;溅射气体的氩氧混合体积比会明显影响薄膜膜层质量及其介电特性,氧分压的变化改变了八面体C轴长度,使晶格畸变和八面体向四面体转变;溅射功率和退火工艺温度也会影响薄膜质量.
国家自然科学基金资助项目(50172042).
董树荣 王德苗 金浩. 射频溅射制备镁钙微波陶瓷薄膜的研究[J]. J4, 2005, 39(3): 449-452.
DONG Shu-Rong, WANG De-Miao, JIN Gao. . J4, 2005, 39(3): 449-452.
http://www.zjujournals.com/xueshu/eng/CN/ 或 http://www.zjujournals.com/xueshu/eng/CN/Y2005/V39/I3/449
Cited