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J4  2005, Vol. 39 Issue (3): 449-452    
论文     
射频溅射制备镁钙微波陶瓷薄膜的研究
董树荣(浙江大学,信息与电子工程学系,浙江,杭州,310027) 
王德苗(浙江大学,信息与电子工程学系,浙江,杭州,310027) 
金浩(浙江大学,信息与电子工程学系,浙江,杭州,310027)
 全文: PDF 
摘要:

制备了膜层质量良好的镁钙微波介质陶瓷(MCT)薄膜.采用高密度等离子体射频溅射法在(110)二氧化硅上沉积了MCT陶瓷薄膜.研究结果表明: 薄膜态MCT陶瓷具有和块状材料相近的微波介电特性,MCT薄膜的介电常数在20左右,品质因子在23THz左右;溅射气体的氩氧混合体积比会明显影响薄膜膜层质量及其介电特性,氧分压的变化改变了八面体C轴长度,使晶格畸变和八面体向四面体转变;溅射功率和退火工艺温度也会影响薄膜质量.

关键词: 微波介质陶瓷MCT介质薄膜射频溅射    
出版日期: 2005-03-20
基金资助:

国家自然科学基金资助项目(50172042).

作者简介: 董树荣(1973-),男,新疆人,博士,从事电子材料与器件的研究,E-mail: iseewdm@zju.edu.cn
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董树荣
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金浩

引用本文:

董树荣 王德苗 金浩. 射频溅射制备镁钙微波陶瓷薄膜的研究[J]. J4, 2005, 39(3): 449-452.

DONG Shu-Rong, WANG De-Miao, JIN Gao. . J4, 2005, 39(3): 449-452.

链接本文:

http://www.zjujournals.com/xueshu/eng/CN/        http://www.zjujournals.com/xueshu/eng/CN/Y2005/V39/I3/449

[1] 王焕平 张启龙 杨辉. 纳米(Ca0.7Mg0.3)SiO3粉体的低温合成与微波介电性能研究[J]. J4, 2007, 41(8): 1370-1373.