在利用激光图形发生器制备微细图形时，为获得稳定的线条宽度，提出一种对薄胶层进行过曝光的技术.准直光束经物镜会聚后光斑的能量呈近似高斯分布，当胶层的曝光量阈值远离高斯型曝光量曲线的头部时，可以弱化线宽对实际曝光量或胶层曝光量阈值等变化的敏感度，从而提高线宽的稳定度.在涂有0.6 μm薄胶的基片上，采用渐变曝光量的方法，利用激光束直写技术制取了一组短弧线，对线宽的测试结果表明，线宽与曝光量关系的实验性曲线和理论模型能较好地吻合.过曝光技术对线宽稳定度要求较高的器件，比如具有螺线波导的集成光学陀螺的制作有较重要价值.
浙江省教育厅科研资助项目(G20050436).
梁宜勇 顾智企 章哲明 闫玮 杨国光. 稳定线宽的过曝光控制[J]. J4, 2006, 40(1): 49-52.
LIANG Yi-Yong, GU Zhi-Qi, ZHANG Zhe-Meng, YAN Wei, YANG Guo-Guang. . J4, 2006, 40(1): 49-52.
http://www.zjujournals.com/xueshu/eng/CN/ 或 http://www.zjujournals.com/xueshu/eng/CN/Y2006/V40/I1/49
Cited
