用电子束蒸发方法制造了Al2O3、LaF3单层膜，对比研究了沉积速率和基板温度对薄膜紫外（193 nm）光学特性、微结构的影响.实验结果表明,LaF3在紫外波段的光学损耗明显小于Al2O3.AFM测试发现,在相同的工艺条件下,Al2O3表面粗糙度大于LaF3,且3薄膜表面粗糙度随基板温度增加而增加.Al2O3薄膜在紫外波段的光学特性严重依赖于沉积速率等制备条件,而沉积速率对3薄膜特性的影响不明显,即使是在5 nm/s的速率条件下,LaF3仍具有良好的光学特性.X射线衍射（XRD）测试发现,电子束蒸发制备的Al2O3薄膜为非晶态,LaF3薄膜有结晶现象.
国家自然科学基金资助项目（60778025）.
蔡文浪 章岳光 刘旭 王颖. Al2O3与LaF3薄膜在紫外波段的特性研究[J]. J4, 2009, 43(3): 555-558.
CA Wen-Lang, ZHANG Yue-Guang, LIU Xu, WANG Ying. . J4, 2009, 43(3): 555-558.
http://www.zjujournals.com/eng/CN/ 或 http://www.zjujournals.com/eng/CN/Y2009/V43/I3/555
Cited
